柔性透明电磁屏蔽膜及制备装置
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摘要
本实用新型提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材，连续移动的柔性有机透明基材依次通过各磁控溅射装置的沉积阴极室，通过各磁控溅射装置的溅射，并控制通入各沉积阴极室的氧气和惰性气体的流量，使得阴极靶材氧化物一次性沉积在柔性有机透明基材的上下表面。
基本信息
专利标题 ：
柔性透明电磁屏蔽膜及制备装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920692169.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-14
授权号 ：
CN210127270U
授权日 ：
2020-03-06
发明人 ：
王鲁南窦立峰
申请人 ：
南京汇金锦元光电材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市南京经济技术开发区兴学路9号2号楼
代理机构 ：
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王清义
优先权 ：
CN201920692169.6
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/10 C23C14/08 C23C14/35 H05K9/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-03-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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