一种红外透明的电磁屏蔽结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种红外透明的电磁屏蔽结构，为了解决现有红外透过率一定时，屏蔽效能低的问题。提出了该结构的红外透过率模型，推导出了理论公式。该结构是十字形结构和圆环形结构相结合，主要由多个相同拓扑单元结构阵列组成的频率选择表面，可提高传统十字形结构屏蔽效能。当电磁波垂直入射于本实用新型所提出的拓扑结构时，对于1GHz到18GHz频段的电磁波会有较高的屏蔽特性，同时红外透过率高于90％。
基本信息
专利标题 ：
一种红外透明的电磁屏蔽结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921158856.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-23
授权号 ：
CN210519364U
授权日 ：
2020-05-12
发明人 ：
苏俊宏周鑫时凯徐均琪吴慎将万文博杨利红
申请人 ：
西安工业大学
申请人地址 ：
陕西省西安市未央区学府中路2号
代理机构 ：
西安新思维专利商标事务所有限公司
代理人 ：
黄秦芳
优先权 ：
CN201921158856.6
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00
法律状态
2020-05-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
