高屏蔽性电磁波屏蔽膜
授权
摘要
一种高屏蔽性电磁波屏蔽膜，该电磁波屏蔽膜包括：一第一离型膜、一绝缘层、一复合金属层、一导电粘着层及一第二离型膜。该绝缘层设于该第一离型膜的一侧表面上。该复合金属层设于该绝缘层的一侧表面上。该导电粘着层设于该复合金属层的一侧表面上。该第二离型膜设于该导电粘着层的一侧表面上。其中，该电磁波屏蔽膜具有电气特性好、抗化性佳、屏蔽性能高、接着强度佳、传输损失少、传输品质高、吸水率低、信赖度佳等特性，相较一般的电磁屏蔽膜具有更高的可靠度以及操作性，从而取代一般屏蔽膜。
基本信息
专利标题 ：
高屏蔽性电磁波屏蔽膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021439640.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-20
授权号 ：
CN213152758U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
黄松建张裕洋刘修铭
申请人 ：
位元奈米科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园市杨梅区高青路28巷1-1号
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
张燕华
优先权 ：
CN202021439640.X
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00
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法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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