一种可穿戴产品曝光治具
授权
摘要
本实用新型公开了一种可穿戴产品曝光治具，包括治具托盘、治具板、治具槽以及治具块，所述的治具板分别呈阵列排布在治具托盘内，所述的治具槽分别设置在每个治具板的左上角，所述的治具块分别安装在治具槽内，所述的治具块上表面的中间位置设置有圆形凹槽。通过上述方式，本实用新型提供的可穿戴产品曝光治具，可穿戴产品曝光治具，大大提高了曝光落图精度，满足了客户对同心度、图案完整性、对称性的要求，大大提高了产品的合格率，同时在BM2二次曝光过程中，省去了对位操作，缩短了产品的生产工期。
基本信息
专利标题 ：
一种可穿戴产品曝光治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920891931.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-14
授权号 ：
CN209879255U
授权日 ：
2019-12-31
发明人 ：
张磊
申请人 ：
苏州悦谱半导体有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道1355号国际科技园内9A3-A6单元
代理机构 ：
苏州广正知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱春红
优先权 ：
CN201920891931.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2019-12-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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