一种用于制备纳米材料的气相反应炉
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型提出了一种用于制备纳米材料的气相反应炉，包括：炉体，炉体安装在炉体支架上，其特征在于：还包括供气系统、升降系统，供气系统设置在炉体的外侧并通过气管与炉体连通，炉体内设有上部导热板、导流均热板、炉腔、两个混气腔，炉体下部设有开口，上部导热板和两个导流均热板包裹在炉腔外部，混气腔位于导流均热板的外侧；在炉体下方还设有升降系统，升降系统上部设有升降台、炉门、下部导热板，炉门与炉体下部开口采用气密性结构密封。其有益效果是：本实用新型解决了小型CVD真空管式炉制备纳米材料面积小，生长不均匀的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于制备纳米材料的气相反应炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920903435.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-17
授权号 ：
CN210237770U
授权日 ：
2020-04-03
发明人 ：
阮诗伦李朝阳张留新樊利芳孙秀洁王新宇
申请人 ：
郑州大工高新科技有限公司;大连理工大学重大装备设计与制造郑州研究院
申请人地址 ：
河南省郑州市自贸试验区郑州片区(经开)第二大街58号兴华大厦2号楼102号
代理机构 ：
郑州浩德知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
边鹏
优先权 ：
CN201920903435.5
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/455 C23C16/26 B82Y40/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2020-05-12 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 16/44
登记生效日 : 20200423
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 郑州大工高新科技有限公司
变更后权利人 : 郑州大工高新科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 450000 河南省郑州市自贸试验区郑州片区(经开)第二大街58号兴华大厦2号楼102号
变更后权利人 : 450000 河南省郑州市自贸试验区郑州片区(经开)第二大街58号兴华大厦2号楼102号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 大连理工大学重大装备设计与制造郑州研究院
登记生效日 : 20200423
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 郑州大工高新科技有限公司
变更后权利人 : 郑州大工高新科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 450000 河南省郑州市自贸试验区郑州片区(经开)第二大街58号兴华大厦2号楼102号
变更后权利人 : 450000 河南省郑州市自贸试验区郑州片区(经开)第二大街58号兴华大厦2号楼102号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 大连理工大学重大装备设计与制造郑州研究院
2020-04-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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