基于石墨烯等离激元的磁场增强结构
授权
摘要
本实用新型涉及亚波长光子学技术领域，尤其涉及一种基于石墨烯等离激元的磁场增强结构，包括石墨烯结构以及基底，所述石墨烯结构设置在所述基底上，所述石墨烯结构为微纳结构。用具有微纳结构的掺杂石墨烯来实现磁场增强，相比于传统的金、银等贵金属，石墨烯作为新型材料，环保且来源丰富，有可能实现廉价大规模生产，从而有效降低成本。
基本信息
专利标题 ：
基于石墨烯等离激元的磁场增强结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920955899.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-24
授权号 ：
CN210401901U
授权日 ：
2020-04-24
发明人 ：
马增红陈子坚徐建张链陈霞刘晔
申请人 ：
天津中德应用技术大学;天津威利安电工器材有限公司
申请人地址 ：
天津市津南区海河教育园区雅深路2号
代理机构 ：
天津市三利专利商标代理有限公司
代理人 ：
李文洋
优先权 ：
CN201920955899.0
主分类号 ：
G02F1/00
IPC分类号 ：
G02F1/00 G02B5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
法律状态
2020-04-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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