γ谱仪铅屏蔽室
授权
摘要
本实用新型公开了一种γ谱仪铅屏蔽室，包括：本体，所述本体为中空结构，包括底壁和侧壁，所述底壁和所述侧壁围成一端开口的腔室，所述底壁上形成有用于安装γ探测器的第一安装孔，所述侧壁上形成有水平贯穿所述侧壁的样品入口；顶盖，所述顶盖可拆卸地设于所述本体的上方且能够封闭所述腔室的开口；样品取放机构，所述样品取放机构设置在所述本体的外侧，所述样品取放机构包括入口密封部和用于盛放样品的样品放置部，所述样品放置部能够通过所述样品入口伸至所述腔室内，所述入口密封部的形状与所述样品入口的形状相适配以便所述样品放置部伸至所述腔室内时，所述入口密封部将所述样品入口密封。
基本信息
专利标题 ：
γ谱仪铅屏蔽室
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920968197.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-25
授权号 ：
CN211037363U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
谢波董淑强李雪贞吴彩霞吴永乐柳加成王凯
申请人 ：
同方威视技术股份有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡良均
优先权 ：
CN201920968197.6
主分类号 ：
E04B1/92
IPC分类号 ：
E04B1/92 E04H9/16
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E04
建筑物
E04B
一般建筑物构造；墙，例如，间壁墙；屋顶；楼板；顶棚；建筑物的隔绝或其他防护
E04B1/00
一般构造；不限于墙，例如，间壁墙，或楼板或顶棚或屋顶中任何一种结构
E04B1/62
隔绝或其他防护；用于此目的构件或使用的特殊材料
E04B1/92
对其他不希望出现的影响或危险的防护
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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