一种飞靶回流衔接装置及PTH生产线
授权
摘要
本实用新型公开了一种飞靶回流衔接装置及PTH生产线，其中，飞靶回流衔接装置包括：飞靶导向管及飞靶升降组件，所述飞靶导向管与所述飞靶升降组件相连接，所述飞靶升降组件用于驱动飞靶导向管从第一预设位置移动至第二预设位置；当所述飞靶导向管处于第一预设位置时，飞靶导向管与PTH生产线中的飞靶回流管相衔接；当所述飞靶导向管处于第二预设位置时，飞靶导向管与PTH生产线中的飞靶移动管相衔接。本实用新型所提供的飞靶回流衔接装置，可利用飞靶升降组件驱动飞靶导向管升降，而飞靶衔接管可与飞靶回流管及飞靶移动管相衔接，为飞靶回流提供了结构基础，配合飞靶回流管可实现飞靶回流，实现持续不断的电镀作业，提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种飞靶回流衔接装置及PTH生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920985183.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-27
授权号 ：
CN210420223U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
朱茂雄
申请人 ：
惠州竞铭机械有限公司
申请人地址 ：
广东省惠州市博罗县园洲镇禾山工业区
代理机构 ：
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王永文
优先权 ：
CN201920985183.5
主分类号 ：
C25D7/04
IPC分类号 ：
C25D7/04 C25D17/06 C25D17/00 C25D19/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D7/00
以施镀制品为特征的电镀
C25D7/04
管；环；中空体
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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