一种电镀池飞靶结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种电镀池飞靶结构，涉及电解或电泳的技术领域，其包括飞靶头，还包括飞靶座组件，所述飞靶座组件包括固定板、两个设于固定板的上侧且与固定板滑移连接的导接块、固定于固定板上且与导接块一一对应的支撑板、固定于导接块靠近支撑板一侧的导向柱和套设于导向柱上且一端压紧支撑板另一端压紧导接块的第一压缩弹簧，两所述导接块均设于两所述支撑板之间，所述导向柱穿设于支撑板上且与支撑板滑移连接，两所述导接块之间具有供飞靶头插入的间隙。本实用新型具有使用时不易出现接触不良的情况，提高了飞疤结构的使用寿命的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种电镀池飞靶结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020860364.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-21
授权号 ：
CN212533175U
授权日 ：
2021-02-12
发明人 ：
刘启运颜茂俊张涛沈红阳
申请人 ：
上海广弘实业有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区吕巷镇红光路8001号18幢底楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020860364.8
主分类号 ：
C25D17/06
IPC分类号 ：
C25D17/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
C25D17/06
施镀制品的悬挂或支承装置
法律状态
2021-02-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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