一种增透膜
授权
摘要
本实用新型实施例提供一种增透膜，包括基片，基片上依次镀有第1至8层膜层，第1至8层波长530nm；第1层膜层物理厚度8‑10.05nm，折射率2.16；第2层膜层物理厚度51.5‑55.23nm，折射率1.45；第3层膜层物理厚度27.29‑30.99nm，折射率2.16；第4层膜层物理厚度21.2‑23.56nm，折射率1.45；第5层膜层物理厚度80.56‑83.66nm，折射率2.16；第6层膜层物理厚度15.45‑19.21nm，折射率1.45；第7层膜层物理厚度28.23‑31.58nm，折射率2.16；第8层膜层物理厚度105.12‑109.11nm，折射率1.38。
基本信息
专利标题 ：
一种增透膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921128339.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-17
授权号 ：
CN210270230U
授权日 ：
2020-04-07
发明人 ：
高治国
申请人 ：
希比希光学（北京）有限公司
申请人地址 ：
北京市怀柔区北房镇经纬工业开发区福顺街1号
代理机构 ：
北京市商泰律师事务所
代理人 ：
孙洪波
优先权 ：
CN201921128339.4
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2020-04-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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