抗反射膜
实质审查的生效
摘要
本公开内容涉及抗反射膜，以及包括所述抗反射膜的偏光板、显示装置和有机发光二极管显示装置，所述抗反射膜包括：硬涂层；和低折射率层，其中在所述低折射率层中存在包含中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒二者并且具有1.5nm至22nm的厚度的颗粒混合层，以及其中所述抗反射膜在400nm波长下的反射率与在550nm波长下的反射率之比为1.3至2.7。
基本信息
专利标题 ：
抗反射膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514444A
申请号 ：
CN202180005501.7
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-03-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
边真锡高京门张影来
申请人 ：
株式会社LG化学
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
梁笑
优先权 ：
CN202180005501.7
主分类号 ：
G02B1/113
IPC分类号 ：
G02B1/113 G02B1/115 G02B1/14 G02B5/30 G09F9/33 H01L27/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/113
申请日 : 20210316
申请日 : 20210316
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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