一种锗基底8-12um红外窗口片
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型属于光学薄膜领域，具体涉及一种锗基底8‑12um红外窗口片。窗口片以单晶锗为基底，基底的两侧均镀有单层的增透膜结构，两侧膜结构的入射角均定义为0°±10°。该窗口片可应用到8‑12um红外探测系统中，也可以用到夜视仪中，因其镀膜设计简单，镀膜材料选择普通，膜层牢固度高等优点，大大降低了窗口片制作的周期与成本。
基本信息
专利标题 ：
一种锗基底8-12um红外窗口片
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020703766.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN212181064U
授权日 ：
2020-12-18
发明人 ：
姜海侯强刘瑞斌
申请人 ：
沈阳北理高科技有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市大东区东站街59号378幢401
代理机构 ：
沈阳智龙专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
张君男
优先权 ：
CN202020703766.7
主分类号 ：
G02B1/113
IPC分类号 ：
G02B1/113 C03C17/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
法律状态
2022-05-06 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G02B 1/113
登记生效日 : 20220425
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 沈阳北理高科技有限公司
变更后权利人 : 辽宁北宇真空科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 110044 辽宁省沈阳市大东区东站街59号378幢401
变更后权利人 : 112700 辽宁省铁岭市铁岭县工业园区懿路工业园
登记生效日 : 20220425
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 沈阳北理高科技有限公司
变更后权利人 : 辽宁北宇真空科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 110044 辽宁省沈阳市大东区东站街59号378幢401
变更后权利人 : 112700 辽宁省铁岭市铁岭县工业园区懿路工业园
2020-12-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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