一种紫外波段超低吸收双面增透膜及其制备方法
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摘要
本发明公开了一种紫外波段超低吸收双面增透膜及其制备方法，一种紫外波段超低吸收双面增透膜，其结构为：Air/(biLaiH)m/Sub/(aiHbiL)m/Air；其中，Sub代表基底；m为周期数，m为2‑6的整数；H代表高折射率膜层，高折射率膜层的折射率为1.5～3；L代表低折射率膜层，低折射率膜层的折射率为1～1.5；ai和bi分别代表各膜层的光学厚度系数，其数值大小和参考波长λ有关，且0≤(aiλ)≤200，0≤(biλ)≤200。本发明紫外波段超低吸收双面增透膜，膜系设计和工艺改进，在5mm厚紫外窗口玻璃基片两侧表面镀制膜系实现355nm紫外增透，减少了吸收，提高了透过率，平均透过率大于99.5％，单面反射小于0.15％。
基本信息
专利标题 ：
一种紫外波段超低吸收双面增透膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112904461A
申请号 ：
CN202110141966.7
公开（公告）日 ：
2021-06-04
申请日 ：
2021-02-02
授权号 ：
CN112904461B
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
陈莉李全民吴玉堂王国力
申请人 ：
南京波长光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市江宁区湖熟工业集中区波光路18号
代理机构 ：
南京中律知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李建芳
优先权 ：
CN202110141966.7
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2022-05-24 ：
授权
2021-06-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/115
申请日 : 20210202
申请日 : 20210202
2021-06-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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