一种可见光区宽带增透膜及其制备方法
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摘要
一种可见光区宽带增透膜，所述增透膜是沉积于光学玻璃基体上的双面沉积增透膜，由等厚的五层薄膜层构成，从光学玻璃基体表面依次向外为SiO2薄膜层、TiO2薄膜层、HfO2薄膜层、TiO2薄膜层和SiO2薄膜层。本发明方法制备出的多层薄膜克服了光学玻璃在增透能力上的不足，减少了光能量的反射损失，本发明制备的多层薄膜致密性优异、粗糙度低至1.18nm；同时提高了增透宽带，在0.4~0.8μm之间的平均透过率为99.83%，最小透过率为94.86%，通带半宽度为91.3nm；增强了多层薄膜中各膜层之间的结合力、薄膜牢固稳定，同时减小了薄膜的应力，残余应力低至0.51GPa；薄膜具有优异的机械强度和抗破坏品质。
基本信息
专利标题 ：
一种可见光区宽带增透膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113703078A
申请号 ：
CN202111013883.6
公开（公告）日 ：
2021-11-26
申请日 ：
2021-08-31
授权号 ：
CN113703078B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
徐照英胡卿卿邓川宁
申请人 ：
重庆文理学院
申请人地址 ：
重庆市永川区红河大道319号
代理机构 ：
重庆晶智汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李靖
优先权 ：
CN202111013883.6
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115 C23C14/30 C23C14/10 C23C14/08 C23C14/46
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2021-12-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/115
申请日 : 20210831
申请日 : 20210831
2021-11-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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