一种超低应力的8-12μm红外宽带增透薄膜及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种超低应力的8‑12μm红外宽带增透薄膜及其制备方，超低应力的8‑12μm红外宽带增透薄膜，膜系结构为SUB/aHbLcHdLeH/air，其中，SUB代表蓝宝石基底、air代表空气、H代表ZnSe层、L代表Yb‑A层，Yb‑A层为YF3与掺钙1wt％‑8wt％的YbF体积比为1:1‑5:1的混合膜层；a‑e代表每层的四分之一参考波长光学厚度的系数。本发明超低应力的8‑12μm红外宽带增透薄膜及其制备方，通过混合膜料的搭配，得到了应力变化较小的增透膜层，使成品后膜层的面型维持在基底本身原有的面型，从而获得较好的薄膜牢固度，有效解决膜层间应力大及膜层附着力小的问题，使得到的膜层既有良好的光谱性能又有较好的机械稳性能，8‑12μm平均单面反射率不大于0.3％，平均双面透过率不小于99.3％，薄膜应力接近为0。
基本信息
专利标题 ：
一种超低应力的8-12μm红外宽带增透薄膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488361A
申请号 ：
CN202210072105.2
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈佳佳李全民朱敏吴玉堂
申请人 ：
南京波长光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市江宁区湖熟工业集中区波光路18号
代理机构 ：
南京中律知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李建芳
优先权 ：
CN202210072105.2
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115 G02B1/00 C23C14/30 C23C14/06 C23C14/54 C23C14/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 1/115
申请日 : 20220121
申请日 : 20220121
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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