防水型宽带高增透薄膜及其制备方法
专利权的终止
摘要
本发明属光学薄膜材料技术领域，具体为一种新型防水性能良好且能实现多窗口宽带增透薄膜及其制备方法。该薄膜通过sol－gel法形成SiO2溶胶，加入聚苯乙烯(PS)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，旋涂镀膜后经三甲基氯硅烷、正己烷表面改性而成。与以往各类保护膜相比该保护膜不仅实现了宽带增透，掺入PS或PMMA都可以在351nm，527nm和1054nm有高的透光率，最高值均超过了98％，而且具有良好的防水性能，接触角均达到了100°－110°，是极佳的KDP晶体防水增透膜的候选替换材料，可在高能核聚变模拟实验的超激光系统中获得应用。
基本信息
专利标题 ：
防水型宽带高增透薄膜及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1794015A
申请号 ：
CN200510110456.4
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
彭波杨雨婷蒋蕾郭睿倩
申请人 ：
复旦大学
申请人地址 ：
200433上海市邯郸路220号
代理机构 ：
上海正旦专利代理有限公司
代理人 ：
陆飞
优先权 ：
CN200510110456.4
主分类号 ：
G02B1/10
IPC分类号 ：
G02B1/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2012-01-25 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101175709906
IPC(主分类) : G02B 1/10
专利号 : ZL2005101104564
申请日 : 20051117
授权公告日 : 20071031
终止日期 : 20101117
号牌文件序号 : 101175709906
IPC(主分类) : G02B 1/10
专利号 : ZL2005101104564
申请日 : 20051117
授权公告日 : 20071031
终止日期 : 20101117
2007-10-31 ：
授权
2006-12-06 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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