电诱导辅助化学机械抛光测试装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种电诱导辅助化学机械抛光测试装置，包括：抛光液池、抛光垫、抛光盘、抛光头、驱动器、负电极以及外接电源；所述抛光液池用于盛装抛光电解液，其通过所述抛光盘带动而旋转；所述抛光垫贴合于抛光液池的底壁上；所述抛光头用于固定待抛光的晶片，并通过所述驱动器驱动而与所述抛光垫相对反向旋转，以对晶片进行机械抛光；所述外接电源的正极与所述晶片接通，负极与所述负电极接通。本实用新型的电诱导辅助化学机械抛光测试装置，通过电诱导作用的方式，增强晶片的氧化腐蚀，提高材料去除率，降低晶片抛光的生产成本，改善晶片的表面质量。
基本信息
专利标题 ：
电诱导辅助化学机械抛光测试装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921151577.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-22
授权号 ：
CN210281867U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
寇青明钮市伟王永光陈瑶赵栋刘卫卫
申请人 ：
苏州大学
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区石湖西路188号
代理机构 ：
苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
查杰
优先权 ：
CN201921151577.7
主分类号 ：
B24B37/10
IPC分类号 ：
B24B37/10 B24B37/34 C25F3/30 C25F7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/04
适用于加工平面的
B24B37/07
以工件或研具的运动为特征
B24B37/10
用于单侧研磨
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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