一种氮化均匀的离子渗氮装置

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摘要

本实用新型公开了一种氮化均匀的离子渗氮装置，属于离子渗氮技术领域，所述渗氮装置包括炉体和底座，所述炉体底部可拆卸连接有底座，所述炉体内腔底部可拆卸连接有轴承，所述轴承上方转动连接有阴极支柱，所述轴承一侧焊接有环形凸块，所述环形凸块上表面一体成型有环形插接块，所述环形插接块上方可拆卸连接有罩壳，所述罩壳顶部一体成型有连接块。本实用新型通过导气管设置有若干个，同时导气管与空腔导通相连，通过抽气管延伸至炉体外部并外接抽气设备，可均匀的将罩壳内部的气体抽出，有利于提高氮化的均匀性，通过一号电机驱动载板转动，从而使工件做圆周运动，使工件的首端和末端在相同的时间内与阳极的距离相同。

基本信息

专利标题：

一种氮化均匀的离子渗氮装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921158778.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-23

授权号：

CN210420119U

授权日：

2020-04-28

发明人：

林育周刘浩孔祥刚

申请人：

深圳市正和德昌科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市龙岗区坪地街道佳兴路2号

代理机构：

中山市兴华粤专利代理有限公司

代理人：

翁晓婵

优先权：

CN201921158778.X

主分类号：

C23C8/36

IPC分类号：

C23C8/36