离子渗氮炉水冷却装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种离子渗氮炉水冷却装置，包括：支撑座，其上方设置有离子渗氮炉；渗氮炉盖，且设置在离子渗氮炉的上方；阴极载物台，其设置在离子渗氮炉的内部；第二储水箱，其设置在支撑座的下方，所述第二储水箱的一侧设置有循环泵，所述第二储水箱与循环泵之间设置有第二橡胶软管，所述离子渗氮炉的内部设置有冷凝管道，所述冷凝管道的两端分别延伸至第二储水箱和循环泵的内部，所述第二橡胶软管的外部设置有第二电磁阀。其实现了可以借助水体快速的将离子渗氮炉内部的热量释放疏导，大大提高了离子渗氮炉的冷却效率，提高了离子渗氮炉的工作效率。
基本信息
专利标题 ：
离子渗氮炉水冷却装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020813053.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-15
授权号 ：
CN211999884U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
周家运苑志勇刘少敏刘俊雄
申请人 ：
武汉武热研热处理科技有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市黄陂区横店镇卫生街
代理机构 ：
北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王莹
优先权 ：
CN202020813053.6
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36 F27D9/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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