一种全自动离子渗氮装置
授权
摘要
本申请公开了一种全自动离子渗氮装置，包括底座，底座上端安装有泵体，泵体远离底座的一端安装有抽气管，底座上端安装有电源，电源上安装有第一支架，第一支架上安装有渗氮罐，电源上端安装有插入渗氮罐内的阴极板，渗氮罐上端设有插入渗氮罐内的进气管，渗氮罐上端还安装有第二支架，第二支架上安装有电机，电机的下端安装有插入渗氮罐内的转轴，渗氮罐内设有处理腔，转轴在处理腔内安装有第一搅拌板，渗氮罐内底部安装有第四支架，第四支架上安装有载物台，阴极板与载物台固定连接。本实用新型实现了对载物台上的工件进行渗氮操作，提高了工件渗氮的效率和质量。
基本信息
专利标题 ：
一种全自动离子渗氮装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922264756.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-16
授权号 ：
CN211112177U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
陈首部蓝加平郭军强孙奉娄
申请人 ：
武汉丰而顺热处理设备有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江岸区谌家矶朱家河村特1号工业园A区1栋
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922264756.8
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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