一种离子渗氮炉的供气系统
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摘要

本实用新型公开了一种离子渗氮炉的供气系统,属于供气系统技术领域,包括炉体,所述炉体顶部竖直方向开设有连接孔且连接孔为两个,所述炉体外部一侧安装有氮气瓶,所述氮气瓶顶部固定连接有排气管,所述氮气瓶顶部通过排气管可拆卸连接有连接管,其氮气瓶通过连接管和输气管连通炉体,输气管从连接孔竖直方向穿入并延伸至炉体内部,输气管表面竖直方向不同高度开设有用于气体通过的气孔,代替了现有排气系统从顶部单一位置的排放方式,提升了排气的效率和氮气在炉体内部的均匀度,连接管末端安装有第二阀门,需要排气时,关闭氮气瓶,打开第二阀门即可便捷的排出炉体内部的多余氮气。

基本信息
专利标题 :
一种离子渗氮炉的供气系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921158781.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-23
授权号 :
CN210420120U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
林育周刘浩孔祥刚
申请人 :
深圳市正和德昌科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区坪地街道佳兴路2号
代理机构 :
中山市兴华粤专利代理有限公司
代理人 :
翁晓婵
优先权 :
CN201921158781.1
主分类号 :
C23C8/36
IPC分类号 :
C23C8/36  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗;材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法,例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的,例如离子氮化
法律状态
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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