一种均温真空离子渗氮炉

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摘要

本实用新型公开了一种均温真空离子渗氮炉，属于离子渗氮炉技术领域，包括炉体，所述炉体外侧壁顶部水平方向固定连接有第一法兰，所述炉体顶部可拆卸连接有顶盖，所述顶盖外侧壁底部固定连接有第二法兰，所述顶盖内部开设有冷却槽，所述顶盖顶部一侧竖直方向开设有进气管，所述顶盖底部粘接有密封垫圈，其在工件支座的底部安装有加热器，可对工件进行加热，缩短渗氮工艺的耗时，且能提高工件底部的温度，避免了炉内温度不均导致影响工件渗氮效果和质量的情况，顶盖内部开设有冷却槽，通过注入冷却水，可在进行渗氮工艺时降低顶盖底部粘接的密封垫圈的受热，使之保持完整，避免因为密封垫圈受热变形导致影响炉体密封效果的情况。

基本信息

专利标题：

一种均温真空离子渗氮炉

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921159236.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-23

授权号：

CN210420122U

授权日：

2020-04-28

发明人：

林育周刘浩孔祥刚

申请人：

深圳市正和德昌科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市龙岗区坪地街道佳兴路2号

代理机构：

中山市兴华粤专利代理有限公司

代理人：

翁晓婵

优先权：

CN201921159236.4

主分类号：

C23C8/36

IPC分类号：

C23C8/36