一种改善颗粒问题的配气路径设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种改善颗粒问题的配气路径设备,涉及配气路径设备领域,包括室盖、垫圈和分配部件,所述分配部件的边缘处开设有多个安装沉头孔和多个安装穿孔,所述分配部件的顶面设置有第一气体分配面,所述第一气体分配面上设置有平等分配的分配孔,所述分配部件的底面设置有第二气体分配面,所述第二气体分配面上设置有平等分配的分配洞,所述分配孔与分配洞连通设置。本实用新型通过一个部件代替固块和面板,减小孔的尺寸,增加孔数量并优化孔的分布,减少两部分导致的不同的热膨胀性,易于配气组件温度控制,减少颗粒(P/D)问题。

基本信息
专利标题 :
一种改善颗粒问题的配气路径设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921161133.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-23
授权号 :
CN210241189U
授权日 :
2020-04-03
发明人 :
顾泉
申请人 :
江苏旭宇腾半导体科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市海门市海门镇富江南路698号内9号房
代理机构 :
成都明涛智创专利代理有限公司
代理人 :
张冠男
优先权 :
CN201921161133.1
主分类号 :
F17D1/04
IPC分类号 :
F17D1/04  
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F17
气体或液体的贮存或分配
F17D
管道系统;管路
F17D
管道系统;管路
F17D1/00
管道系统
F17D1/02
用于气体或蒸气的
F17D1/04
用于气体分配的
法律状态
2020-04-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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