本实用新型提供一种清洗槽及修整器清洗系统。清洗槽包括：支撑体，所述支撑体包括支撑柱和套设于所述支撑柱上的支撑面板；壳体，所述壳体具有环形侧壁且呈中空状；所述壳体的水平面尺寸与所述支撑面板的水平面尺寸相匹配；在所述清洗槽工作过程中，所述壳体套设于所述支撑柱上；第一驱动装置，与所述壳体相连接，用于驱动所述壳体沿所述支撑柱上下移动。本实用新型通过优化的结构设计，可减少因人工手动清洗清洗槽带来的人力成本增加；同时因确保清洗槽的清洁，因而在用于修整器的清洗过程中可提高修整器的清洁度，进而改善研磨垫的清洁度，最终实现减少晶圆污染，提高化学机械研磨效果的目的。