清洗槽及修整器清洗系统

授权

摘要

本实用新型提供一种清洗槽及修整器清洗系统。清洗槽包括：支撑体和壳体；支撑体包括支撑柱和套设于支撑柱上的支撑面板；壳体具有环形侧壁且呈中空状；在清洗槽工作过程中，支撑面板卡设于壳体内以在壳体的上部间隔出清洗空间以用于清洗修整器，清洗空间的高度大于待清洗的修整器的毛刷长度；支撑面板上还设置有进液孔和多个排液孔，多个排液孔的排液速率之和小于进液孔的进液速率。本实用新型提供的清洗槽和修整器清洗系统通过优化的结构设计可有效减少颗粒物杂质的残留，提高清洗槽的洁净度，由此在用于修整器的清洗过程中可提高修整器的清洁度并进而改善研磨垫的清洁度，最终实现减少晶圆污染，提高化学机械研磨效果的目的。

基本信息

专利标题：

清洗槽及修整器清洗系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921572089.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-20

授权号：

CN210676159U

授权日：

2020-06-05

发明人：

倪震威马成斌季文明

申请人：

上海新昇半导体科技有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区泥城镇新城路2号24幢C1350室

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙)

代理人：

余明伟

优先权：

CN201921572089.3

主分类号：

B08B3/04

IPC分类号：

B08B3/04 B08B3/08 B08B13/00 H01L21/67