一种用于防腐硅溶胶生产的去除杂质用离心设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于防腐硅溶胶生产的去除杂质用离心设备，包括底座，底座上设有滑槽，滑槽内滑动连接有滑块，滑块的上端设有接料箱，接料箱的下端滑动连接于底座的上端，底座的上端设有外框，外框的下端设有下料口，底座的上端设有电机，电机的上端设有电机轴，电机轴的上端穿过外框与离心框连接，外框内设有梯形块，电机轴转动连接于梯形块内，电机轴的外侧设有转块，转块通过转槽转动连接于梯形块内，该离心设备可以对防腐硅溶胶进行稳定的离心操作，该离心设备的离心用的扇形滤板对称设有四个，使得设备的离心效率较高，并且扇形滤板方便进行更换和装卸。
基本信息
专利标题 ：
一种用于防腐硅溶胶生产的去除杂质用离心设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921182233.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-25
授权号 ：
CN210357582U
授权日 ：
2020-04-21
发明人 ：
曹立松
申请人 ：
河北佳世鸿维科技有限公司
申请人地址 ：
河北省保定市涿州市松林店镇工业园区
代理机构 ：
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭栋梁
优先权 ：
CN201921182233.2
主分类号 ：
B04B1/00
IPC分类号 ：
B04B1/00 B04B7/08 B04B7/16 B04B9/04 B04B11/02 B04B15/00 B04B15/06
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B04
用于实现物理或化学工艺过程的离心装置或离心机
B04B
离心机
B04B1/00
有旋转式转鼓的离心机，并配有坚固的套筒，主要用来分离带有或不带有固体微粒的液体混合物
法律状态
2020-04-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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