节能改进型双银中空玻璃磁控溅射银靶间距调节机构
授权
摘要

本实用新型公开了一种节能改进型双银中空玻璃磁控溅射银靶间距调节机构,包括设置在磁控溅射镀膜机其真空腔室下方的调节定板与调节动板,调节定板及调节动板均为环形板,调节定板与调节动板之间固定设置环形的波纹管,位于调节定板与调节动板之间设置至少两组调节部件,调节部件位于波纹管的外侧。本实用新型通过调节部件并配合波纹管可以实现根据不同真空腔室的情况合理调节磁控溅射银靶与基材的间距,最大化的降低边缘效应,并且由于每个真空腔室的情况不同,能够根据情况调节间距比以往单独制备定厚的金属垫块更好。

基本信息
专利标题 :
节能改进型双银中空玻璃磁控溅射银靶间距调节机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921201249.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-29
授权号 :
CN210765491U
授权日 :
2020-06-16
发明人 :
郭博郭亚霓郭超
申请人 :
江阴沐祥节能装饰工程有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市江阴市顾山镇锡张路9号
代理机构 :
江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王威钦
优先权 :
CN201921201249.3
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/54  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2020-06-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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