一种地铁出入口的基坑结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种地铁出入口的基坑结构，所述地铁出入口的基坑结构包括容纳地铁出入口的第一基坑和容纳综合管廊的第二基坑；所述第二基坑在所述第一基坑的下方，且所述第二基坑与所述第一基坑的空间连通。本实用新型的地铁出入口的基坑结构，能减少地铁出入口的施工成本和施工风险。
基本信息
专利标题 ：
一种地铁出入口的基坑结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921213649.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-30
授权号 ：
CN210737551U
授权日 ：
2020-06-12
发明人 ：
邓文杰周宇冠江智鹏孙春光杨晓宇钱卫刘稳刘相屏熊波丁泽江涛
申请人 ：
中铁第四勘察设计院集团有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市武昌杨园和平大道745号
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡亮
优先权 ：
CN201921213649.6
主分类号 ：
E02D17/02
IPC分类号 ：
E02D17/02 E02D29/045
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
法律状态
2020-06-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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