一种用于调节β射线面密度测量仪射线束的准直装置
授权
摘要

本实用新型涉及一种用于调节β射线面密度测量仪射线束的准直装置,包括放射源安装壳,所述的放射源安装壳上开设有放射源通孔,放射源通孔的一侧设有第一调节转轴,第一调节转轴套装放射源安装壳上,第一调节转轴上设有旋转驱动装置,第一调节转轴的底部固定设有调节转盘,调节转盘上分别开设有第一准直孔、第二准直孔、第三准直孔和第四准直孔,第一准直孔、第二准直孔、第三准直孔和第四准直孔均位于同一虚拟圆上;本产品具有多个准直孔并且容易调节的达到方便操作的需要;本实用新型调节、使用方便,具有广泛的市场前景。

基本信息
专利标题 :
一种用于调节β射线面密度测量仪射线束的准直装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921213763.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-30
授权号 :
CN210575146U
授权日 :
2020-05-19
发明人 :
葛学海白云飞陈鹏张立功李铮马武艺曹夙
申请人 :
开封市金石科技有限公司;开封市测控技术有限公司
申请人地址 :
河南省开封市开发区金明大道南段
代理机构 :
郑州浩翔专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
靳锦
优先权 :
CN201921213763.9
主分类号 :
G21K1/02
IPC分类号 :
G21K1/02  G01N9/24  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/02
使用光阑、准直器
法律状态
2020-05-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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