一种用于X射线的准直调节装置
授权
摘要

本申请提供了一种用于X射线的准直调节装置,包括:准直块组件,所述准直块组件包括右准直块、左准直块、间隙调整垫片以及准直缝调节机构,其中,所述间隙调整垫片设置在所述右准直块与所述左准直块之间,并与所述右准直块、所述左准直块的侧壁接触,所述准直缝调节机构安装在所述右准直块上;以及用于放置所述准直块组件的位置调节组件。将准直器的调节机构集成到一起,降低了空间的占用,且准直器与出束口贴合,防止了散射剂量外溢,同现有技术相比,不仅实现了准直器的结构的紧凑,方便了准直器的安装、调节及维护,而且从源头解决了散射射线外溢的问题。

基本信息
专利标题 :
一种用于X射线的准直调节装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122683711.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-04
授权号 :
CN216487347U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
邹文陈德洋黎超
申请人 :
中广核贝谷科技有限公司
申请人地址 :
江西省南昌市南昌高新技术产业开发区艾溪湖三路135号
代理机构 :
南昌贤达专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
金一娴
优先权 :
CN202122683711.1
主分类号 :
G21K1/02
IPC分类号 :
G21K1/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理;核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术;照射装置;γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置,如聚焦或慢化
G21K1/02
使用光阑、准直器
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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