本实用新型公开一种低反射率衰减片，其包括基片、至少两层二氧化硅涂层和至少两层二氧化钛涂层；二氧化硅涂层与二氧化钛涂层交替沉积于基片的正面上，且二氧化硅涂层靠近基片；二氧化硅涂层与二氧化钛涂层交替沉积于基片的反面上，且二氧化硅涂层靠近基片。本实用新型通过将二氧化硅涂层与二氧化钛涂层交替沉积于基片的正面上；二氧化硅涂层与二氧化钛涂层交替沉积于基片的反面上，由于二氧化钛涂层具有无毒、高不透明性、高白度和光亮度，使得衰减片的衰减效率得到了提高，同时二氧化硅涂层透过率高，使得入射光在二氧化硅涂层表面不易反射，从而进一步提高了衰减片的衰减效率。