一种整合光源的光学系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种整合光源的光学系统，其包括至少一第一光源、至少一第二光源和至少一匀光装置，所述匀光装置包括第一横向匀光棒、第二横向匀光棒和纵向匀光棒，所述第一横向匀光棒和所述第二横向匀光棒相对设置，所述第一横向光源和所述第二横向光源的反射面彼此相接，所述第一光源的光线经所述第一横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第二光源的光线通过所述第二横向匀光棒的反射面反射至所述纵向匀光棒，所述第一光源和所述第二光源的光线在所述纵向匀光棒中整合。上述光学系统的使用提高了匀光装置的出射总功率，增大均匀出射面面积，改善出射面照明均匀性，同时，提高光源的兼容性。
基本信息
专利标题 ：
一种整合光源的光学系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921306561.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-13
授权号 ：
CN210348191U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
张柯李伟成张雷
申请人 ：
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921306561.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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