新型激光跟踪仪二维校准辅助装置和激光跟踪仪校准系统
授权
摘要
本实用新型提供了一种新型激光跟踪仪二维校准辅助装置和激光跟踪仪校准系统，涉及仪器检测技术领域。新型激光跟踪仪二维校准辅助装置包括底座、立柱、头架以及配重件。底座用于连接于轨道并能够沿轨道滑动，立柱连接于底座且立柱的内部具有沿立柱的长度方向延伸的腔室。头架滑动连接于立柱的外壁，配重件设置于腔室内且能够沿立柱的长度方向滑动，配重件连接于头架，配重件上设置有弹性组件，配重件通过弹性组件与立柱的内壁抵接，并且弹性组件可相对于立柱的内壁滑动。激光跟踪仪校准系统包括上述新型激光跟踪仪二维校准辅助装置。新型激光跟踪仪二维校准辅助装置和激光跟踪仪校准系统稳定性好，精度较高。
基本信息
专利标题 ：
新型激光跟踪仪二维校准辅助装置和激光跟踪仪校准系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921359299.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-20
授权号 ：
CN210741377U
授权日 ：
2020-06-12
发明人 ：
曹江萍李刚汤江文蒋丽彭元辉谢开强杨桩
申请人 ：
中国测试技术研究院机械研究所
申请人地址 ：
四川省成都市成华区玉双路10号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王秋月
优先权 ：
CN201921359299.4
主分类号 ：
G01B11/00
IPC分类号 ：
G01B11/00 G01S7/497
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2020-06-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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