一种用于多种材料共蒸的热源坩埚系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于多种材料共蒸的热源坩埚系统，包括用于放置待蒸镀材料的坩埚和热源组件，坩埚上包括位于其中部的第一材料放置区，及位于第一材料放置区外部的呈环状设置的第二材料放置区，第一材料放置区与第二材料放置区彼此不相连通，热源组件设置在每个材料放置区的外侧壁上。本实用新型应用于OLED制备过程中，可使掺杂型功能层蒸镀时减少蒸发源的使用数量，降低了设备成本的同时提高了设备的利用率，同时保证共蒸镀膜层的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种用于多种材料共蒸的热源坩埚系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921404213.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-27
授权号 ：
CN210736875U
授权日 ：
2020-06-12
发明人 ：
吴俊宇孙龙
申请人 ：
固安鼎材科技有限公司
申请人地址 ：
河北省廊坊市固安县新兴产业示范区
代理机构 ：
北京东方芊悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
彭秀丽
优先权 ：
CN201921404213.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-06-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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