一种用于坩埚材料消耗的监控设备
授权
摘要
本实用新型公布一种用于坩埚材料消耗的监控设备，包括坩埚固定装置、弹性装置、传感器和信号发射器；所述坩埚固定装置为中空结构且顶部具有开口，所述坩埚固定装置的内部用于放置坩埚，所述坩埚固定装置与弹性装置连接，所述弹性装置的伸缩方向为上下走向；在所述坩埚固定装置的外侧壁上设置有所述信号发射器，在所述坩埚固定装置外设置有所述传感器，所述传感器位于所述信号发射器的一侧，所述传感器用于在信号发射器进入到传感器的感应区域内发出信号。上述技术方案中监控设备对工作人员起到预警的作用，保障了蒸镀速率的稳定，避免基板上的膜质出现异常，提高产品的良率。
基本信息
专利标题 ：
一种用于坩埚材料消耗的监控设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021468827.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-23
授权号 ：
CN212864956U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
温质康林佳龙乔小平
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林祥翔
优先权 ：
CN202021468827.2
主分类号 ：
C23C14/54
IPC分类号 ：
C23C14/54 C23C14/24 H01L51/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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