一种可视化的线源坩埚装置及其材料监控方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种可视化的线源坩埚装置及其材料监控方法，包括坩埚底座，坩埚底座的上端通过锁紧机构安装有坩埚上盖，坩埚底座的左右两侧以及正面通过第一螺栓分别安装有左侧透明视窗、右侧透明视窗和正面透明视窗，左侧透明视窗、右侧透明视窗和正面透明视窗与坩埚底座之间的接触处设有第二石墨垫片；左侧透明视窗、右侧透明视窗和正面透明视窗分别与CCD镜头对应搭配，本发明通过对应3个CCD镜头实时拍照确认，以实现可视化及实时监控的目的，能够解决现有制程中若材料在使用过程中发生裂解或氧化影响产品性能未及时被发现而导致一定数量的产品浪费的问题，降低良率损耗。
基本信息
专利标题 ：
一种可视化的线源坩埚装置及其材料监控方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318241A
申请号 ：
CN202210138268.6
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-02-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林志斌林泽
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州君诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
戴雨君
优先权 ：
CN202210138268.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54 C23C14/12 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20220215
申请日 : 20220215
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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