一种平板式PECVD设备腔盖开合装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种平板式PECVD设备腔盖开合装置，包括设于腔体底部的伸缩驱动件、设于腔体侧壁的旋转支撑座以及设于腔盖上的拉臂，所述旋转支撑座上设有弯折的旋转臂，所述旋转臂下端与所述伸缩驱动件铰接，上端与一连接臂下端铰接，所述连接臂上端与所述拉臂铰接且铰接处设有腰型孔，所述腰型孔内设有缓冲垫。本实用新型具有结构简单、空间利用率高、有利于减轻大面积腔盖变形造成的影响等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种平板式PECVD设备腔盖开合装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921424090.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-29
授权号 ：
CN210529056U
授权日 ：
2020-05-15
发明人 ：
彭宜昌陈特超唐电张威
申请人 ：
中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请人地址 ：
湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
代理机构 ：
湖南兆弘专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
周长清
优先权 ：
CN201921424090.1
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-05-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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