电磁耦合装置及具有其的抛光装置、电磁流变性能测量装置
授权
摘要
本实用新型涉及精密光学加工的技术领域，更具体地，涉及电磁耦合装置及具有其的抛光装置、电磁流变性能测量装置，包括底座、电场发生组件、磁场发生组件、第一旋转组件、第二旋转组件以及设于电场发生组件上方的绝缘挡边，第一旋转组件与电场发生组件连接，第二旋转组件与磁场发生组件连接，电场发生组件、磁场发生组件均与底座连接，绝缘挡边内部分布有电场发生组件产生的电场以及磁场发生组件产生的磁场。本实用新型通过改变电场发生部分结构和磁极结构实现不同形式的电、磁耦合场，为电磁流变链串控制方式和电磁流变抛光方式的研究提供设备基础；并应用于电磁流变抛光试验、电磁流变性能测试，推动电磁流变抛光在光学精密加工领域的广泛应用。
基本信息
专利标题 ：
电磁耦合装置及具有其的抛光装置、电磁流变性能测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921443098.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-29
授权号 ：
CN210667955U
授权日 ：
2020-06-02
发明人 ：
黄展亮阎秋生潘继生
申请人 ：
广东工业大学
申请人地址 ：
广东省广州市番禺区大学城外环西路100号
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
王锦霞
优先权 ：
CN201921443098.2
主分类号 ：
H01F7/02
IPC分类号 ：
H01F7/02 B24B1/00 B24B41/06 G01N11/14
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01F
磁体；电感；变压器；磁性材料的选择
H01F7/00
磁体
H01F7/02
永久磁体
法律状态
2020-06-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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