一种电磁耦合抛光设备
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摘要

本实用新型公开了一种电磁耦合抛光设备,包括多层驱动输入结构、用于装设电磁流变抛光液的电场盘结构以及磁极盘摆动结构,磁极盘摆动结构用于电磁流变抛光液在动态磁场的作用下形成实时磨料更新自锐和形状恢复的柔性抛光垫,电场盘结构产生的电场与磁极盘摆动结构产生的磁场相耦合以提高柔性抛光垫的剪切应力和粘度;其中多层驱动输入结构包括基座、设于基座上的偏心传动部分以及主传动部分,磁极盘摆动结构设于偏心传动部分上,电场盘结构设于主传动部分上。本实用新型中电场盘结构产生的电场与磁极盘摆动结构产生的磁场相耦合提高柔性抛光垫的剪切应力和粘度,从而实现对工件表面的高效超光滑加工。

基本信息
专利标题 :
一种电磁耦合抛光设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921443075.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-29
授权号 :
CN211219930U
授权日 :
2020-08-11
发明人 :
黄展亮潘继生阎秋生罗斌
申请人 :
广东工业大学
申请人地址 :
广东省广州市番禺区大学城外环西路100号
代理机构 :
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 :
陈伟斌
优先权 :
CN201921443075.1
主分类号 :
B24B1/00
IPC分类号 :
B24B1/00  B24B41/06  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺;与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2020-08-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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