抛光垫及抛光设备

专利申请权、专利权的转移

摘要

本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，提供一种抛光垫及抛光设备，抛光垫包括表面功能层和基底层，所述表面功能层和所述基底层之间设有分离层，所述表面功能层和所述基底层均可拆卸的与所述分离层连接；抛光设备，包括如以上所述的抛光垫和抛光机，所述抛光垫可拆卸的安装在所述抛光机的盘面上。通过在表面功能层和基底层之间设置分离层，保证表面功能层和基底层与分离层均可拆卸的连接，实现基底层的可重复利用，只需拆卸表面功能层进行更换即可，降低了抛光生产成本，结构简单，操作方便。

基本信息

专利标题：

抛光垫及抛光设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921134857.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-07-18

授权号：

CN210452283U

授权日：

2020-05-05

发明人：

姜宏

申请人：

东泰高科装备科技有限公司

申请人地址：

北京市昌平区科技园区中兴路10号A129-1室

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司

代理人：

吴欢燕

优先权：

CN201921134857.7

主分类号：

B24B37/20

IPC分类号：

B24B37/20