抛光设备
驳回的专利申请
摘要
一种抛光设备，包括一与安装到转动体上的主转动中心径向隔开的副转动轴，最好转动体如平衡锤绕主转动中心转动，一圆柱或多边柱形抛光室绕副转动轴转动，抛光材料和待抛光工件装入抛光室。通过以固定速率沿相对主转动中心的固定方向使副转动轴绕主转动中的转动来获得有效地抛光，同时通过上述设置可获得最大容量的抛光室。
基本信息
专利标题 ：
抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1042859A
申请号 ：
CN89108597.1
公开（公告）日 ：
1990-06-13
申请日 ：
1989-10-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大野家建
申请人 ：
大野家建
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
王宪模
优先权 ：
CN89108597.1
主分类号 ：
B24B31/02
IPC分类号 ：
B24B31/02
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B31/00
用工件或磨料散放在滚筒内的滚磨装置或其他装置进行工件表面抛光或研磨的机床或装置；及其附件
B24B31/02
使用旋转滚筒
法律状态
1992-03-18 ：
驳回的专利申请
1990-06-13 ：
公开
1990-06-06 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1042859A.PDF
PDF下载
