一种具有电磁流变双效应的抛光装置
授权
摘要
本实用新型提出了一种具有电磁流变双效应的抛光装置，作为一种可控柔性抛光装置，在加工零件时可通过压力应变片实时检测加工压力，随后通过控制电磁场来调节电磁流变弹性体的刚度，使其在抛光时具有固定的抛光力度，使得加工表面更加均匀，同时可根据不同加工零件的硬度调整不同的抛光力度。
基本信息
专利标题 ：
一种具有电磁流变双效应的抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021498011.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-27
授权号 ：
CN213615619U
授权日 ：
2021-07-06
发明人 ：
高春甫郑岚鹏贺新升傅晴蒋佳杰陈俊元周崇秋
申请人 ：
浙江师范大学
申请人地址 ：
浙江省金华市婺城区迎宾大道688号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021498011.4
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B41/04 B24B29/00 B24B41/06 B24B51/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2021-07-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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