高精度磁流变抛光装置

授权

摘要

本发明公开了高精度磁流变抛光装置，包括器皿、磁流变抛光液、至少一组薄壁旋转组件和至少两组磁场发生组件，器皿内开有抛光腔，磁流变抛光液放置在抛光腔内；薄壁旋转组件包括薄壁管和第一电机，薄壁管转动设置在抛光腔内，第一电机固定在器皿外壁上，且带动薄壁管沿其轴线旋转；每组薄壁旋转组件与器皿侧壁之间、相邻的薄壁旋转组件之间的正下方均设有一组磁场发生组件，磁场发生组件包括磁场发生器和水平移动装置，磁场发生器固定在水平移动装置上，水平移动装置沿薄壁管轴线方向移动。本发明的优点是：通过移动的磁场发生器组件使磁流变液转为固态的磁束刷，不断与待抛光零件接触进行抛光，可以对待抛光零件进行批量抛光，大大提高抛光效率。

基本信息

专利标题：

高精度磁流变抛光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021465884.5

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-20

授权号：

CN212977658U

授权日：

2021-04-16

发明人：

吴克钱毕成王鸿云姜宇新丁世杰刘强

申请人：

台州学院

申请人地址：

浙江省台州市市府大道1139号台州学院

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202021465884.5

主分类号：

B24B1/00

IPC分类号：

B24B1/00 B24B31/10 B24B31/12