一种动态磁场磁流变抛光装置
授权
摘要
本实用新型涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种动态磁场磁流变抛光装置，包括基座、抛光盘、动磁场发生组件、工件装夹组件、超声组件、第一驱动组件以及第二驱动组件：工件装夹组件安装于基座且工件装夹组件设于抛光盘上方，抛光盘与第一驱动组件连接，动磁场发生组件与第二驱动组件连接，动磁场发生组件设于抛光盘下方，第一驱动组件、第二驱动组件安装于基座，超声组件安装于抛光盘的侧部，抛光盘内盛装有磁流变抛光液。本实用新型通过动态磁场实现磁性链串重新排布而实现磨料的更新和自锐，通过超声波辅助化学反应使得化学反应更加充分，通过装夹盘公转和自转，使工件充分与磁流变抛光液接触，提高抛光效率。
基本信息
专利标题 ：
一种动态磁场磁流变抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922501285.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN211681233U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
蔡志航潘继生阎秋生罗斌
申请人 ：
广东工业大学
申请人地址 ：
广东省广州市越秀区东风东路729号
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
王锦霞
优先权 ：
CN201922501285.8
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B1/04 B24B27/00 B24B29/02 B24B41/06 B24B47/12 B24B47/16 B24B47/22
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
