本实用新型涉及精密加工技术领域。本实用新型公开了一种磁流变抛光装置。其中，磁流变抛光装置的一种方案包括包括机架、载液头与第一驱动装置，所述第一驱动装置用于驱动所述载液头转动，所述载液头包括极性相反的第一磁极与第二磁极，所述第一磁极与所述第二磁极沿所述载液头的径向分布。本方案的磁流变抛光装置通过设置沿载液头的径向分布的第一磁极与第二磁极，使得抛光液中的磁性颗粒和磨粒能够集中在载液头侧面，以及底面与侧面的交接区域，且能够在打磨过程中对载液头侧面以及底面与侧面的交接区域的磨粒保持足够的吸附力，从而实现对工件内凹面的抛光。