本发明涉及磁流变抛光技术领域，公开了一种集群磁流变抛光装置及其性能测试方法，包括底座，底座上固定有抛光盘，抛光盘上设置有凹槽，凹槽底部固定有多个凸块；抛光盘底部在每个凸块对应的位置设置有电磁感应线圈，凹槽的正上方设置有可升降的转轴，转轴上设置有固定待抛光工件的夹具，转轴上连接有扭矩传感器。本发明通过凸块将凹槽划分为多个小格，在磁场作用以及凸块对带有磨粒的磁流变液阻力作用下，高粘度的磁流变液不容易随抛光面一起旋转，可以提高带磨粒的磁流变液对待抛光面的去除效果，且抛光面平整；同时通过扭矩传感器实时监测转轴扭矩，通过扭矩计算出抛光装置对待抛光件的最大去除率，以实时监测抛光装置对待抛光工件的抛光性能。