永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法
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摘要

本发明涉及一种永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法。包括机架、公转机构、自转机构、装夹头、抛光盘、磁场发生机构;其中,磁场发生机构包括安装座、多个径向充磁的柱形的第一永磁体、多个轴向充磁的第二永磁体、多个轴向充磁的第三永磁体;每一个第二永磁体的四周均间隔安装有多个第三永磁体,以共同组成一个永磁块;多个永磁块阵列安装于安装座的顶部,第二永磁体和第三永磁体朝向抛光盘的一端的磁极分别是N极和S极;安装座上间隔设有多个安装腔,多个第一永磁体分别横向且转动安装于多个安装腔中,转动第一永磁体,能够在抛光盘中形成磁场或使磁场消退。本发明通过转动第一永磁体,可实现充磁和消磁,便于抛光盘的清理。

基本信息
专利标题 :
永磁式集群磁流变抛光机构及抛光方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113601276A
申请号 :
CN202110867157.4
公开(公告)日 :
2021-11-05
申请日 :
2021-07-29
授权号 :
CN113601276B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
潘继生黄开泽阎秋生陈海阳
申请人 :
广东工业大学;广东纳诺格莱科技有限公司
申请人地址 :
广东省广州市越秀区东风东路729号
代理机构 :
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 :
王晓玲
优先权 :
CN202110867157.4
主分类号 :
B24B1/00
IPC分类号 :
B24B1/00  B24B31/112  B24B31/12  B24B41/06  
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IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺;与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2022-06-10 :
授权
2021-11-23 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 1/00
申请日 : 20210729
2021-11-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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