一种磁流变3D抛光装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种磁流变3D抛光装置，涉及机械抛光领域，包括抛光支撑平台，所述抛光支撑平台上设有抛光槽，所述抛光支撑平台的顶面固定有连接板，所述连接板上设有调节机构；所述调节机构的活动板通过活动机构与所述连接板活动连接，所述活动板的另一端连接有限位机构，所述限位机构活动的设置在所述抛光槽的上方；所述限位机构的限位板通过滑动机构与所述活动板相连，所述限位板的另一侧的顶端固定有固定板，所述固定板的顶端连接有电动推杆，所述电动推杆的一端活动的穿过所述固定板，且端部连接有滑动板，所述滑动板的顶端连接有驱动电机，所述驱动电机连接有连接轴，所述连接轴的另一端连接有连接台座，所述连接台座活动的置于抛光槽内。
基本信息
专利标题 ：
一种磁流变3D抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022371328.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-22
授权号 ：
CN213795581U
授权日 ：
2021-07-27
发明人 ：
向定艾
申请人 ：
德阳展源新材料科技有限公司
申请人地址 ：
四川省德阳市旌阳区天元镇(景福)秋月村四组6幢
代理机构 ：
成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
叶斌
优先权 ：
CN202022371328.8
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B41/00 B24B41/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2021-07-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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