一种小型磁流变平面抛光装置
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摘要

本实用新型公开了一种小型磁流变平面抛光装置,包括回转工作台、抛光盘、三轴联动工作滑台、实验平台、磁场产生装置和电机。电机的输出端通过第一联轴器与回转工作台轴的一端连接;回转工作台轴可转动地安装于磁场产生装置和实验平台上,其另一端固定有回转工作台;抛光盘与回转工作台可拆卸式固定连接;三轴联动工作滑台安装于实验平台上,末端安装有工件,带动工件实现xyz轴三向运动;磁场发生装置安装于实验平台底部,与抛光盘正对;磁场发生装置通电后产生磁场,磁场使得抛光盘中的磁流变液变为类固体状态,加工工件;断电后磁场消失,磁流变液恢复流动性。本装置实现了设备小型化,便于实验室人员对磁流变平面抛光某种设想的简单验证。

基本信息
专利标题 :
一种小型磁流变平面抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921467580.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-05
授权号 :
CN210413786U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
张争艳苏毓姗张慧慧乔国朝张建华
申请人 :
河北工业大学
申请人地址 :
天津市红桥区丁字沽光荣道8号河北工业大学东院330#
代理机构 :
天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王瑞
优先权 :
CN201921467580.X
主分类号 :
B24B1/00
IPC分类号 :
B24B1/00  B24B29/02  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺;与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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