一种用于磁流变抛光的加工装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于磁流变抛光的加工装置。包括基座、磁场发生机构、偏摆驱动机构、以及用于盛装磁流变的抛光盘；抛光盘固定于基座上，磁场发生机构设于抛光盘的下方，且在抛光盘内形成动态磁场；偏摆驱动机构安装于基座上，磁场发生机构与偏摆驱动机构的输出端连接；在磁场发生机构上还设有用于限制磁场发生机构发生旋转的偏摆辅助机构。本实用新型通过设置偏摆驱动机构，使得磁铁安装偏心盘只做规律的偏摆运动而不进行整体的旋转，使得柔性抛光垫的形状不断回复；同时，该偏摆运动使得磁极仅仅进行小幅度的规律运动，使得在保持磁流变柔性抛光垫加工性能的同时对抛光盘盘面的磨损降到最小。
基本信息
专利标题 ：
一种用于磁流变抛光的加工装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121357286.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-06-17
授权号 ：
CN216151877U
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
潘继生阎秋生蔡志航洪志清陈海阳梁智镔
申请人 ：
广东工业大学;广东纳诺格莱科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市越秀区东风东路729号
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
王晓玲
优先权 ：
CN202121357286.0
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B31/112 B24B31/12
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2022-04-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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